光学监控系统

SpectraLock光学监控系统
SpectraLock光学监控系统
Eddy公司(苹果谷,加州)

Eddy公司(苹果谷,CA)的SpectraLock光学监测系统提供了现场监测和沉积速率控制,以精确的精度,一次又一次,没有迭代或错误的单层和多层薄膜的生产。艾迪公司的先进系统生产的光学涂料精确规格的原始光学设计,因为其指数色散增强光学监测(IDEM)的特点。使用SpectraLock,一次测试就可以确认涂层与设计匹配,而传统方法是进行多次测试,直到涂层迭代接近设计。

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3D机器视觉相机

3DPIXA双200 μm HR
3DPIXA双200 μm HR
Chromasens(Poway,CA)

Chromasens公司(Poway, CA)扩展了其广受欢迎的3DPIXA系列高性能3D线扫描相机,其新型号提供了一个55英寸视场(视场),用于完成高速扫描大型、复杂和不规则形状的物体。3DPIXA双200 μm HR采用工厂校准的立体相机,能够同时采集2D彩色图像以及高度图或3D点云。

3DPIXA双200μmHR的其他关键特征是:5940 mm / s的图像采集速度(19.48英尺/秒);高达60微米的高度分辨率,范围高达400mm;10μm×10μm(间距10μm)像素尺寸;每行7296像素(29.7 kHz线频率);吞吐量高达6.8 gbit / s或850 mb / s。添加到其易用性是支持Halcon(MVTEC),MIL(Matrox),LabVIEW(National Instruments)和Cohake(SAC)以及Chromasens自己的3D-API的库。

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光学设计软件

VPIphotonics设计套件
VPIphotonics设计套件
vpiphotonics(柏林,德国)

VPIPHotonics设计套件来自VPIPHotonics(德国柏林),提供专业应用专用仿真和设计工具,用于具有常用可用性,设计过程和数据分析功能的光学元件和传输系统。

9.9版本有增强的用户界面和工具操作,以及模拟能力的进步,新的设计和分析工具等相干M-QAM和直接检测PAM-M系统,新的和增强的DSP和编码功能,延长了图书馆的图片元素和设备,持续支持VPIphotonics现有的应用和市场,并应对新的应用和市场。

该仿真工具套件提供了超过850个现成的演示,包括说明9.9版中可用的新功能和应用程序的新演示,例如概率整形、互连用PAM-4、多模VCSEL传输、非线性Volterra滤波。

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广泛的超光谱相机

SpectraLock光学监控系统
4200型宽视场高光谱相机
肝脏成像(埃米德维尔,加利福尼亚州)

HinaLea成像公司(Emeryville, CA)宣布推出一款新的4200型宽视场高光谱相机,适用于广泛的实验室和工业应用,从基础科学和生物医学研究到工业应用。该仪器可以识别特定的部件和材料,以及产品质量的验证/缺陷的识别(颜色匹配,真实性和均匀性)。型号4200的特点包括:连续、高分辨率成像;波长选择性;盯着高光谱成像;真正的高光谱成像;和可定制性。

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XY对准阶段

AU200-50 × 50-SC对准工作台
AU200-50 × 50-SC对准工作台
最佳工程系统,Inc。(OES)(Van Nuys,CA)

OU200-50×50-SC对准阶段从最优工程系统,Inc。,医疗,工业,半导体处理,测试,扫描和光学应用。x和y轴的线性行程为50mm×50mm,每个轴的分辨率为5微米(非微步)或0.125微米(使用每步电机驱动器20微秒),可重复性是1.5微米,位置精度为5微米。1毫米的每转铅螺钉和预载的V形槽和交叉滚子轴承有助于AU200-50×50-SC对准阶段的高精度和刚度。

XY工作台尺寸为155毫米× 155毫米,具有钻孔和螺纹安装孔的精密图案,以方便额外的工具或夹具。一个大开口的桌子也可用。这种低轮廓黑色阳极氧化铝XY阶段很容易集成到新的或现有的系统。

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智能线路扫描摄像头

RazerCam LS
RazerCam LS
EVT眼视觉技术(德国卡尔斯鲁厄)

来自EVT眼视觉技术公司(Karlsruhe, Germany)的RazerCam LS是一款在Linux操作系统下可以自由编程的智能线扫描相机。强大的FPGA支持高数据速率,摄像头为高计算能力和快速帧率进行了优化。

2048像素的分辨率和高达47千赫的线率可以达到。整个应用程序可以在智能扫描相机RazerCam z中执行。FPGA可以在评估变得复杂的情况下提供帮助。该评估仅运行在在线扫描摄像头上,并可通过远程访问连接到PC上。处理器基于Xilinx Zynq (SoM),在可编程FPGA和内存(RAM)之间以400mb / s的速度传输数据。此外,该摄像头有4路输入和4路输出以及以太网供电(PoE)。

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线性测量系统

OptiCentric线性
OptiCentric®线性
TRIOPTICS(威德尔,德国)

二十年来,光学中心®由Trioptics(Wedel,Germany)制造的测量系统要求在精密旋转轴承上测量样品。这种旋转轴承的使用通常需要垂直测量装置。面对这一挑战,TioLtics的工程师现在已经开发了一种澄清检查过程,可以在不旋转的情况下进行澄清测量,无论样品位置如何。

叫OptiCentric®线性,这种检测方法的特殊之处在于它使用自准直器焦点的直线运动路径-而不是旋转轴-作为测量的参考轴。样品曲率中心的位置相对于这个焦点位置进行测量,使得在测量浓度误差时能够达到≤1微米的精度。这使得测量设置的方向可以自由选择,也可以是水平的。缺少旋转确保了在批量生产中执行质量检查所需的速度。

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工业二极管激光系统

突出显示DL4000HPR.
突出®dl4000hpr.
相干(圣克拉拉,加州)

新的相干(圣克拉拉,加州)高光®DL4000HPR是一种紧凑、高功率、光纤交付的工业二极管激光系统,用于金属加工应用,如熔覆、热处理和钎焊。

突出显示DL4000HPR具有小型占地面积和标准,19“机架安装封装。此外,电源和控制电子设备包含在系统外壳中。产品的另一个显着优势在于其导电冷却二极管不需要去离子冷却水。最后,它的墙壁插头效率为45%表示低能耗。

HighLight DL4000HPR通过可拆卸的1000 μm直径输送光纤,在920 nm和1100 nm波长之间提供4 kW的功率。可提供多种输出传输光纤和光束整形/聚焦光学和连接器。

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光电探测器

AXUV100TF030和AXUV100TF400光电探测器
AXUV100TF030和AXUV100TF400
光电二极管公司(Camarillo, CA)

Opto Diode Corporation(Camarillo,CA),ITW公司推出了两个光电探测器,AXUV100TF030和AXUV100TF400,100毫米2有源区域,直接沉积薄膜过滤器,用于极端紫外线(EUV)检测。

AXUV100TF030在3 nm处的典型响应度为0.16 A/W,检测范围为1 ~ 12 nm。AXUV100TF400典型的响应度为0.15 A/W,检测波长为40 nm,检测范围为18 ~ 80 nm。这两种设备都配有临时保护罩,在极端紫外线环境下具有超强的稳定性。环境温度为-10℃~ +40℃,氮气环境和真空环境温度为-20℃~ +80℃。

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激光扫描仪

ARTEC射线激光扫描仪
Artec雷
精确计量学(布鲁克菲尔德,WI)

精确计量(布鲁克菲尔德,WI)宣布其新的Artec射线激光扫描仪。理想的扫描大型物体,如风力涡轮机,船舶螺旋桨,飞机和建筑物,Artec Ray提供超高的精度和速度。这种扫描仪能够扫描110米远,提供亚毫米距离精度,以及角度精度。此外,数据采集是干净的,噪音水平保持在绝对的最低,减少后处理时间。

要用Artec Ray进行扫描,用户只需把它放在他们想要扫描的物体前面的三脚架上,然后按下按钮。扫描后,扫描直接进入Artec工作室,然后无缝输出到Geomagic Design x。无需担心寻找电源,因为内部电池可以持续4个小时。Artec Ray可以与Eva或Spider手持Artec扫描仪配对,以扫描难以到达的区域,如汽车内部或添加复杂的细节到一个大规模的3D模型。

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整合球体来源

集成球源
集成球源
马Gigahertz-Optik(处)

Fisheye镜片用于相机上,以在非常广的角度> 180°上产生半球形(全景)摄影图像。由于这些相机在图像平面上的物镜前面的半球形图像上,因此需要在该广域的聚半球照明场上的参考校准光源进行测试和匹配均匀性。

Gigahertz-Optik的(Amesbury,MA)ISS-50-LU-FE集成球源提供了高度均匀的亮度分布,并使具有三种不同光谱的白色平衡适用于不同的照明条件以适应预期的应用。Gigahertz-Optik的SC-05系统控制器采用触摸屏显示器,使用专门设计用于满足均匀光源,其三盏灯,可互换滤光轮,可变孔径和RGB监视器检测器。

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色谱法的软件

清晰度版本8.0
清晰度版本8.0
DataApex(布拉格,捷克共和国)

Dataapex(布拉格,捷克共和国)最近推出了明确的3.0版,具有图形增强的用户界面。GLP和MS选项已添加新功能和增强功能。控制仪器组合已扩展,导致Clarity 8.0软件平台中有超过700个支持的仪器。清晰度色谱软件的现有用户可以免费更新到新版。

8.0版中包含的增强功能是新的清晰度文件图标;全新的外观和感受清晰的主,设备监视器和仪表窗;重新设计的方法设置对话框;重新设计的单分析对话框;改进了密码文件的安全性;和许多错误修复,以提高性能。

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Photonics&Imaging Technology杂志

本文首次发表于2018年11月号光子与成像技术杂志。

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